【簡介：】發(fā)明和實(shí)用新型同時(shí)申請(qǐng)，就叫做“一發(fā)一實(shí)”（基于同一主題）。
你知道實(shí)用新型的申請(qǐng)周期比發(fā)明短很多的吧？那么，一起申請(qǐng)，肯定是實(shí)用新型先下來授權(quán)通知書。
那么，等后來你的發(fā)明進(jìn)

發(fā)明和實(shí)用新型同時(shí)申請(qǐng)，就叫做“一發(fā)一實(shí)”（基于同一主題）。
你知道實(shí)用新型的申請(qǐng)周期比發(fā)明短很多的吧？那么，一起申請(qǐng)，肯定是實(shí)用新型先下來授權(quán)通知書。
那么，等后來你的發(fā)明進(jìn)入實(shí)質(zhì)審查的時(shí)候（實(shí)用新型沒有實(shí)質(zhì)審查，所以申請(qǐng)周期短），國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局那邊會(huì)給你審查意見，告訴你，是不是要放棄實(shí)用新型的專利權(quán)，如果你放棄的話，發(fā)明的授權(quán)就會(huì)下來。
當(dāng)然，你也不必?fù)?dān)心，萬一發(fā)明因?yàn)槿狈π路f性啊創(chuàng)造性啊什么的，沒有授權(quán)，實(shí)用新型也已經(jīng)被放棄掉這種烏龍情況發(fā)生。
因?yàn)?，基于專利法第九條，如果你的發(fā)明最后授權(quán)，你的實(shí)用新型才放棄，如果你的發(fā)明因?yàn)槠渌麊栴}沒授權(quán)，你的實(shí)用新型是保留不會(huì)被放棄的。
最后，申請(qǐng)的時(shí)候，記得勾選“一發(fā)一實(shí)同時(shí)申請(qǐng)”。

怎么樣的產(chǎn)品才能申請(qǐng)專利?

（一）確定申請(qǐng)類型
1. 發(fā)明 產(chǎn)品形狀、構(gòu)造、生產(chǎn)工藝、配方 保護(hù)20年
2. 實(shí)用新型 產(chǎn)品形狀、構(gòu)造或兩者的結(jié)合 保護(hù)10年
3. 外觀設(shè)計(jì) 產(chǎn)品形狀、圖案或色彩與它們的結(jié)合 保護(hù)10年
（二）撰寫申請(qǐng)文件內(nèi)容：
1. 發(fā)明（實(shí)用新型）：請(qǐng)求書、權(quán)利要求書、說明書、說明書附圖、摘要、摘要附圖。
2. 外觀設(shè)計(jì)：請(qǐng)求書、外觀設(shè)計(jì)圖或照片、外觀設(shè)計(jì)簡要說明。方式：自己撰寫或委托代理機(jī)構(gòu)撰寫。
（三）遞交專利文件
直接郵寄或交國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局（北京）
（四）繳納申請(qǐng)費(fèi)用
1. 發(fā)明900元/件；實(shí)用新型500元/件；外觀設(shè)計(jì)500元/件。
2. 可以向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局申請(qǐng)費(fèi)用減緩手續(xù)。
申請(qǐng)專利的條件
中國專利共有三種類型：發(fā)明、實(shí)用新型、外觀設(shè)計(jì)。
申請(qǐng)專利的發(fā)明創(chuàng)造必須符合新穎性、創(chuàng)造性、實(shí)用性的要求。
違反國家法律、社會(huì)公德或者妨害公共利益的發(fā)明創(chuàng)造，以及下列各項(xiàng)情況者不授予專利權(quán)：
1.科學(xué)發(fā)現(xiàn)；
2.智力活動(dòng)的規(guī)則和方法；
3.疾病的診斷和治療方法；
4.動(dòng)植物品種；
5.用原子核變換方法獲得的物質(zhì)。
對(duì)以上第四項(xiàng)所獲得的生產(chǎn)方法、可以依照專利法規(guī)定授予專利權(quán)。
如何選擇好專利申請(qǐng)的類型？
發(fā)明專利保護(hù)產(chǎn)品和方法，其獲得授權(quán)需要經(jīng)過形式審查和實(shí)質(zhì)審查，審查周期較長，對(duì)創(chuàng)造性的要求較高，保護(hù)期較長；實(shí)用新型專利僅保護(hù)產(chǎn)品，其獲得授權(quán)只需經(jīng)過形式審查，審查周期較短，對(duì)創(chuàng)造性的要求較低，保護(hù)期較短。
近年來，作為一種專利申請(qǐng)策略，就一項(xiàng)產(chǎn)品發(fā)明既申請(qǐng)發(fā)明專利又申請(qǐng)實(shí)用新型專利（即重復(fù)申請(qǐng)），已經(jīng)越來越為人們所采用，這樣做的好處是：通過實(shí)用新型專利能更早地獲得專利保護(hù)，且當(dāng)發(fā)明的創(chuàng)造性較低而不能獲得發(fā)明專利的保護(hù)時(shí)，依然有實(shí)用新型專利的存在而提供保護(hù)。外觀設(shè)計(jì)專利保護(hù)產(chǎn)品形狀、圖案或色彩與它們的結(jié)合。
申請(qǐng)發(fā)明或?qū)嵱眯滦晚毺峤坏奈募夹g(shù)交底書的要求
1.技術(shù)交底書的要求：
1)應(yīng)清楚、完整地寫明發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷膬?nèi)容；
2)使所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員能夠根據(jù)此內(nèi)容實(shí)施發(fā)明創(chuàng)造；
3)使所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員相信本發(fā)明確實(shí)可以解決現(xiàn)有技術(shù)不能解決的問題。
2.技術(shù)交底書的內(nèi)容:
1)發(fā)明創(chuàng)造的名稱；
2)所屬技術(shù)領(lǐng)域；
3)背景技術(shù)描述，據(jù)申請(qǐng)人所知，已有技術(shù)有何優(yōu)缺點(diǎn)，對(duì)其存在的問題或不足客觀地進(jìn)行評(píng)述；
4)發(fā)明創(chuàng)造的目的或任務(wù)，說明所要解決的技術(shù)問題；
5)清楚完整的敘述發(fā)明創(chuàng)造的技術(shù)方案；
對(duì)于機(jī)械產(chǎn)品的發(fā)明創(chuàng)造應(yīng)詳細(xì)說明每一個(gè)結(jié)構(gòu)零部件的形狀、構(gòu)造、部件之間的連接關(guān)系、空間位置關(guān)系、工作原理等；
對(duì)于電器產(chǎn)品應(yīng)描述電器元件的組成、連接關(guān)系；
對(duì)于無固定形狀和結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品，如粉狀或流體產(chǎn)品，化學(xué)品、藥品，應(yīng)描述配方、制造工藝條件和工藝流程等；
對(duì)于方法發(fā)明，應(yīng)描述操作步驟、工藝參數(shù)等；
6)與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明所具有的優(yōu)點(diǎn)和效果，例如性能的提高、成本的降低等。
7)附圖：實(shí)用新型必須提供附圖，附圖中零件可注標(biāo)號(hào)，不需尺寸和參數(shù)標(biāo)注。
8)最佳實(shí)施例（可與第5部分合寫）：
對(duì)于產(chǎn)品的發(fā)明創(chuàng)造應(yīng)描述產(chǎn)品構(gòu)成、電路構(gòu)成或者化學(xué)成分，各部分之間的相互關(guān)系，工作過程，操作步驟；對(duì)于方法發(fā)明應(yīng)寫明步驟、參數(shù)、工藝條件等，可提供多個(gè)實(shí)施例。
申請(qǐng)外觀設(shè)計(jì)專利應(yīng)提交圖片或照片的要求
1.圖片、照片的要求
1)圖片或照片的尺寸應(yīng)介于3厘米×8厘米和15厘米× 22厘米之間；
2)圖片必須用電腦繪制或正規(guī)制圖工具繪制；
3)各個(gè)視圖的比例必須一致；
4)圖片或照片中不得有不是構(gòu)成外觀設(shè)計(jì)的圖形或文字，如商標(biāo)、標(biāo)志、名人肖像、也不得有指示線、虛線、中心線、尺寸標(biāo)記等。
2.圖片或照片的內(nèi)容
1)提交主視圖、后視圖、俯視圖、仰視圖、左視圖、右視圖（視圖相同或?qū)ΨQ的可省略）；
2)當(dāng)設(shè)計(jì)要點(diǎn)不涉及六個(gè)面時(shí)，可僅提供所涉及面的正投影視圖；
3)圖片或照片各一式三份；
4)視圖相同或?qū)ΨQ的可省略。