【簡介：】全球光刻機(jī)發(fā)展史，光刻機(jī)是荷蘭阿斯麥ASML首創(chuàng)的嗎？很多人都以為光刻機(jī)是由全球最先進(jìn)的光刻機(jī)制造商荷蘭阿斯麥ASML首次生產(chǎn)制造的？
甚至，還有人認(rèn)為，光刻機(jī)這種極其復(fù)雜的光刻

全球光刻機(jī)發(fā)展史，光刻機(jī)是荷蘭阿斯麥ASML首創(chuàng)的嗎？很多人都以為光刻機(jī)是由全球最先進(jìn)的光刻機(jī)制造商荷蘭阿斯麥ASML首次生產(chǎn)制造的？

甚至，還有人認(rèn)為，光刻機(jī)這種極其復(fù)雜的光刻機(jī)，難道不是外星科技的產(chǎn)物嗎？

其實(shí)，并非如此！

阿斯麥ASML是全球第一家，也是唯一一家研制出EUV極紫外光刻機(jī)的廠商；

只有EUV光刻機(jī)（采用了波長為13.4nm的紫外線）才能夠用于7nm制程及更先進(jìn)制程芯片的制造！

阿斯麥ASML也是站在眾多前人巨人的肩上成長起來的！

那么全球第一臺(tái)光刻機(jī)到底是怎么來的呢？

1947年12月，大名鼎鼎的美國貝爾實(shí)驗(yàn)室的肖克利（“晶體管之父”）、巴丁和布拉頓共同研制出了一種點(diǎn)接觸型的鍺晶體管?。ㄈ艘虼双@得了1956年的諾貝爾物理學(xué)獎(jiǎng)）

自此以后，光刻技術(shù)才有了發(fā)展的契機(jī)！

……

1958年，德州儀器的杰克·基爾比（集成電路的兩位發(fā)明人之一）提出并發(fā)明了鍺基底擴(kuò)散工藝的集成電路！（2000年，杰克·基爾比因集成電路的發(fā)明被授予諾貝爾物理學(xué)獎(jiǎng)，這是一個(gè)“遲到”了42年的諾貝爾物理學(xué)獎(jiǎng)）

如果沒有杰克·基爾比，就很難有如今的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)盛況，電腦、手機(jī)等電子產(chǎn)品不知道牛年馬月才能進(jìn)入每一個(gè)家庭！

1959年，仙童半導(dǎo)體的羅伯特·諾伊斯（英特爾創(chuàng)始人之一）發(fā)明了硅基底平面工藝的集成電路！

由于硅集成電路變成了集成電路市場的主流，羅伯特·諾伊斯與杰克·基爾比，一起被譽(yù)為“集成電路之父”！

……

1956年，美國貝爾實(shí)驗(yàn)室用晶體管代替電子管，制成了世界上第一臺(tái)全晶體管計(jì)算機(jī)！

隨后，仙童半導(dǎo)體研制出了世界上第一個(gè)適用單結(jié)構(gòu)硅晶片。

20世紀(jì)60年代，仙童半導(dǎo)體提出了CMOS IC（集成電路）制造工藝；

IBM研制出了第一臺(tái)IC（集成電路）計(jì)算機(jī)IBM360；

美國GCA公司（美國地球物理學(xué)公司）開發(fā)出了光學(xué)圖形發(fā)生器和分布重復(fù)精縮機(jī)！

……

20世紀(jì)70年代，GCA開發(fā)出第一臺(tái)分布重復(fù)投影曝光機(jī)（光刻機(jī)）！

20世紀(jì)80年代，SVGL（美國硅谷集團(tuán)光刻系統(tǒng)公司）開發(fā)出了第一代步進(jìn)掃描投影曝光機(jī)（光刻機(jī)）！

1995年，日本佳能Cano研制出了300mm晶圓曝光機(jī)（光刻機(jī)）！

隨后，阿斯麥ASML推出步進(jìn)掃描曝光機(jī)（光刻機(jī)），采用的是193nm的波長！

2012年，為了推進(jìn)EUV極紫外光刻機(jī)等先進(jìn)設(shè)備的研制，阿斯麥ASML推出了“客戶聯(lián)合投資專案”，英特爾、臺(tái)積電、三星成為了股東，分別持有15%、5%、3%左右的股權(quán)！

當(dāng)阿斯麥ASML搞定EUV光刻機(jī)之后，英特爾、臺(tái)積電、三星享有了優(yōu)先采購權(quán)！

咱們國內(nèi)的上海微電子，研制的光刻機(jī)已經(jīng)能夠滿足90nm光刻工藝需求！

光刻機(jī)研制之路，難如上青天！

哪怕它再難，咱們也要將它征服！

……

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