【簡介：】大家都知道高端光刻機和航空發(fā)動機是目前制造業(yè)當(dāng)中技術(shù)難度最大的幾個產(chǎn)品，當(dāng)前高端光刻機和航空發(fā)動機技術(shù)基本上只掌握在少數(shù)國家的手里。
比如目前全球能夠生產(chǎn)7納米以上

大家都知道高端光刻機和航空發(fā)動機是目前制造業(yè)當(dāng)中技術(shù)難度最大的幾個產(chǎn)品，當(dāng)前高端光刻機和航空發(fā)動機技術(shù)基本上只掌握在少數(shù)國家的手里。

比如目前全球能夠生產(chǎn)7納米以上光刻機的只有荷蘭ASML這一家公司，他們壟斷了全球100%的高端光刻機市場，而民用高端航空發(fā)動機基本上也是被英國的羅羅和美國的GE、普惠給壟斷。

對于我國這樣一個制造業(yè)大國來說，我國每年對芯片以及客機的需求量非常大，但是目前我們在高端光刻機和民用航空發(fā)動機跟全球頂尖技術(shù)仍然有很大的差距，雖然過去多年我國也投入了大量資金用于光刻機以及航空發(fā)動機的研發(fā)，但取得的效果并不是很明顯，所以導(dǎo)致我國的高端光刻機以及航空發(fā)動機都只能依賴進口。

但對于尖端技術(shù)依賴進口，這對我國制造業(yè)來說是非常被動的，一旦西方一些國家對我國進行技術(shù)封鎖了，我們很多產(chǎn)品都有可能陷入停滯的狀態(tài)。比如前段時間美國計劃禁止GE向我國出口發(fā)動機，如果這個事情真的執(zhí)行起來，那么我國的大飛機計劃C919會受到很大的影響，其設(shè)計方案有可能要推倒重來，好在美國后來又重新允許GE向我國出口發(fā)動機，C919才驚險過了這一關(guān)。

看到這估計很多朋友都會有疑問，既然我國對芯片以及民用客機的需求量這么大，那為什么我國不加大力氣去研究自己的高端光刻機和民用航空發(fā)動機呢？

實際上并不是我國沒有投入研發(fā)，過去幾年我國也投入了大量的資金進行研發(fā)，只是因為高端光刻機和航空發(fā)電機的技術(shù)難度太大，所以一直沒有太明顯的突破而已。

至于高端光刻機和航空發(fā)動機，哪個技術(shù)難度更大，我個人認(rèn)為高端光刻機的難度會更大一些。

無論是高端光刻機還是航空發(fā)動機，他們都有自己的核心技術(shù)，一旦這些核心技術(shù)取得突破了，那么無論是高端光刻機還是航空發(fā)動機的研發(fā)進展都會取得突破。

而目前航空發(fā)動機的核心技術(shù)難點就是材料，特別是渦輪盤和渦輪葉片材料，因為航空發(fā)動機的溫度基本上都是在1000度以上，這么高的溫度，很多材料一碰估計就融化了。

但是航空發(fā)動機它不是短期的運轉(zhuǎn)，而是需要在高溫、高壓的復(fù)雜環(huán)境之下長時間、高速度的運轉(zhuǎn)，而且還得反復(fù)使用。比如從中國到美國一趟飛機就要10個小時以上，想要確保發(fā)動機葉片能夠在這么長的時間之內(nèi)穩(wěn)定的運轉(zhuǎn)難度是非常大的，所以普通的材料根本就不能拿來做航空發(fā)動機的葉片。

目前航空發(fā)動機葉片都是一些特殊的材料，比如鎳基合金，陶瓷基復(fù)合材料。而這些合金材料的制造過程難度是非常復(fù)雜的，基本上都需要在真空環(huán)境之下進行熔煉，而且對材料的純度要求非常高，一旦有雜質(zhì)或者氣體就會對材料產(chǎn)生影響，正因為冶煉難度非常大，所以目前真正具備制造高端合金材料的國家寥寥無幾，這也是制約我國航空發(fā)動機發(fā)展的技術(shù)難點。

我們再來看一下高端光刻機的技術(shù)難點，目前高端光刻機的研發(fā)基本上都是遵循摩爾定律，每晉升一個臺階技術(shù)難度都空前加大，特別是當(dāng)光刻機工藝超過10納米的時候，其技術(shù)難度可以說是挑戰(zhàn)人類的極限，因為當(dāng)這個技術(shù)工藝小于10納米的時候，就會產(chǎn)生一種量子效應(yīng)，對應(yīng)的晶體管就會受到很大的影響，產(chǎn)品不良率也會相應(yīng)的提高，所以目前全球真正能夠研發(fā)10納米以上高端光刻機的也就荷蘭ASML一家。

而一臺高端光刻機有數(shù)萬個零部件，每一個零部件的技術(shù)難度都是非常高的，其中難度最高的是光源以及鏡頭。

我們以鏡頭為例，這個技術(shù)難度到底有多難呢？有人曾經(jīng)做過一個比較恰當(dāng)?shù)谋扔?，假如光刻機的鏡頭面積相當(dāng)于德國這么大，那么在整個鏡頭當(dāng)中最高凸起的地方不能超過一厘米，大家自己想象一下，這個難度是多么的大。

除了鏡頭之外，光源也是制約光刻機發(fā)展的一個技術(shù)難點，因為光刻機本身就是利用光來進行雕刻，這就必須有穩(wěn)定而強大的光源設(shè)備。

但目前全球真正能提供高端光刻機光源和鏡頭的也就美國、德國、日本等少數(shù)國家。

總之，不論是高端光刻機還是航空發(fā)動機，他們技術(shù)難度都是非常大的，都是對人類的一種極限挑戰(zhàn)，但從整體來說，我認(rèn)為高端光刻機的技術(shù)難度會比航空發(fā)動機難度更大一些。

因為航空發(fā)動機只要把材料問題解決了，很多問題都可以迎刃而解。而高端光刻機每過一段時間都要繼續(xù)往前推進，而按照摩爾定律，越是往前推進，技術(shù)難度越來越大。

至于光刻機每進級一個臺階技術(shù)難度有多大，我們可以來舉一個簡單的例子，目前一個原子的大小大概是0.1納米，而目前ASML所生產(chǎn)的高端光刻機已經(jīng)達(dá)到7納米，相當(dāng)于芯片線路只有70個原子大小，而未來隨著光刻機技術(shù)的推進，這個線路大小有可能會縮小到20個原子，甚至是10個原子那么大，大家想想這個技術(shù)難度到底有多大。