【簡介：】中國光刻機(jī)距離世界先進(jìn)水平，還有較大的差距。
第一，目前全球最先進(jìn)的光刻機(jī)，已經(jīng)實(shí)現(xiàn)5nm的目標(biāo)。這是荷蘭ASML實(shí)現(xiàn)的。
而ASML也不是自己一家就能夠完成，而是國際合作才能實(shí)現(xiàn)

中國光刻機(jī)距離世界先進(jìn)水平，還有較大的差距。

第一，目前全球最先進(jìn)的光刻機(jī)，已經(jīng)實(shí)現(xiàn)5nm的目標(biāo)。這是荷蘭ASML實(shí)現(xiàn)的。

而ASML也不是自己一家就能夠完成，而是國際合作才能實(shí)現(xiàn)的。其中，制造光源的設(shè)備來自美國公司；鏡片，則是來源于德國的蔡司公司等。這也是全球技術(shù)的綜合作用。

第二，中國進(jìn)口最先進(jìn)的光刻機(jī)，是7nm。

2018年，中芯國際向荷蘭ASML公司定制了一臺(tái)7nm工藝的EUV光刻機(jī)，當(dāng)時(shí)預(yù)交了1.2億美元的定金。請(qǐng)注意，當(dāng)時(shí)這臺(tái)機(jī)器還沒有交付，而是下訂單。

但國內(nèi)市場(chǎng)上，其實(shí)已經(jīng)有7nm光刻機(jī)。在2018年12月，SK海力士無錫工廠進(jìn)口了中國首臺(tái)7nm光刻機(jī)。海力士也是ASML的股東之一。

第三，目前國產(chǎn)最先進(jìn)的光刻機(jī)，應(yīng)該是22nm。

根據(jù)媒體報(bào)道，在2018年11月29日，國家重大科研裝備研制項(xiàng)目“超分辨光刻裝備研制”通過驗(yàn)收。該光刻機(jī)由中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所研制，光刻分辨力達(dá)到22納米。

請(qǐng)注意該報(bào)道的標(biāo)題：“重大突破，國產(chǎn)22納米光刻機(jī)通過驗(yàn)收?！?/p>

也就是22nm的光刻機(jī)，已經(jīng)是重大突破。

22nm的光刻機(jī)，關(guān)鍵部件已經(jīng)基本上實(shí)現(xiàn)了國產(chǎn)化?！爸锌圃汗怆娝舜瓮ㄟ^驗(yàn)收的表面等離子體超分辨光刻裝備，打破了傳統(tǒng)路線格局，形成一條全新的納米光學(xué)光刻技術(shù)路線，具有完全自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)?！?/p>

有關(guān)報(bào)道中的“全新的技術(shù)”，也就是中國科研工作者在關(guān)鍵部件完全國產(chǎn)化情況下，實(shí)現(xiàn)的這一次技術(shù)突破。